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成膜工程 | 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
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4インチsio2二酸化ケイ素ウェーハ/抵抗率0.001 0.005オーム*センチメートル/シングル酸素/シリコンウエハ厚さ500um|resistance  ohm|ohms resistanceresistance 50 ohms - AliExpress
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シリコンウエハー販売|キャノシス株式会社
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膜厚測定アプリケーション:SiO2膜|テクノシナジー
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片面研磨高純度小さな正方形ピース SEM シリコンウエハ SiO2 シングル酸素マルチサイズスポットサイズカスタマイズ可能か|フランジ| -  AliExpress
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恋する半導体(セミコイ)「熱酸化膜編」 | 株式会社アイテス
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膜厚測定アプリケーション:SiO2膜|テクノシナジー
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半導体製造の8つの工程(2) ウェハ表面を覆う保護膜を作る「酸化工程」 | TECH+(テックプラス)
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SOIウェハのカスタマイズ | 株式会社エレクトロニクスエンドマテリアルズコーポレーション
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熱酸化Sio2シリコンウェハー製 - Sil'Tronix Silicon Technologies - 6 inch (150 mm) / 2  inch (50 mm)
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300mmシリコンウェットまたはドライ熱酸化/二酸化ウェーハ(Si + SiO2)– Powerwayウェーハ
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SOIウェハのカスタマイズ | 株式会社エレクトロニクスエンドマテリアルズコーポレーション
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膜付Wafer | KOD株式会社
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窒化処理シリコンウェハー製 - Nitride layer (Si3N4) - Sil'Tronix Silicon Technologies - 2  inch (50 mm) / 6 inch (150 mm) / 窒化ケイ素製
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膜厚測定アプリケーション:SiO2膜|テクノシナジー
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アイテス ウェハー成膜加工のご案内(内容を選ぶ) | 株式会社アイテス
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オーシャンインサイト :: 製品 :: 薄膜リファレンスウェハ
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学位論文要旨詳細
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6インチsio2二酸化ケイ素ウェーハ/抵抗率1 10オーム*センチメートル/モデル= doule酸素/シリコンウエハ厚さ675um|ohms  resistance|wafer siliconthick models - AliExpress
6インチsio2二酸化ケイ素ウェーハ/抵抗率1 10オーム*センチメートル/モデル= doule酸素/シリコンウエハ厚さ675um|ohms resistance|wafer siliconthick models - AliExpress

膜付きウェーハ|株式会社アドバンテック
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ウエハ(ウエーハ)|セラミック・ウエハ|製品情報|千代田交易株式会社
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シリコンウエハー(半導体)洗浄のメカニズム | マイクロバブル・ファインバブル発生OKノズル
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シリコンウェハ酸化膜上で原子分解能STEM観察に成功 〜ナノ材料の非破壊原子分解能評価のための効果的なアプローチ〜:機械工学専攻 項 栄助教、丸山  茂夫教授、総合研究機構 熊本 明仁卓越研究員、幾原雄一教授ら|工学部/工学系研究科 プレスリリース | UTokyo-Eng
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